Back to EUR-Lex homepage

EUR-Lex Access to European Union law

Back to EUR-Lex homepage

This document is an excerpt from the EUR-Lex website

Use quotation marks to search for an "exact phrase". Append an asterisk (*) to a search term to find variations of it (transp*, 32019R*). Use a question mark (?) instead of a single character in your search term to find variations of it (ca?e finds case, cane, care).
Search tips
Need more search options? Use the Advanced search
You are here

Document 32022R0001R(01)

Rättelse till Kommissionens delegerade förordning (EU) 2022/1 av den 20 oktober 2021 om ändring av Europaparlamentets och rådets förordning (EU) 2021/821 vad gäller förteckningen över produkter med dubbla användningsområden (Europeiska unionens officiella tidning L 3 av den 6 januari 2022)

EUT L 20, 31.1.2022, p. 282–282 (BG, ES, CS, DA, DE, ET, EL, EN, FR, GA, HR, IT, LV, LT, HU, MT, NL, PL, PT, RO, SK, SL, FI, SV)

ELI: http://data.europa.eu/eli/reg_del/2022/1/corrigendum/2022-01-31/oj

31.1.2022   

SV

Europeiska unionens officiella tidning

L 20/282

Rättelse till Kommissionens delegerade förordning (EU) 2022/1 av den 20 oktober 2021 om ändring av Europaparlamentets och rådets förordning (EU) 2021/821 vad gäller förteckningen över produkter med dubbla användningsområden

( Europeiska unionens officiella tidning L 3 av den 6 januari 2022 )

På sidan 142, bilaga I punkt 3B001, ska led f ersättas med följande:

”f)

Litografisk utrustning enligt följande:

1.

Utrustning för uppriktning samt exponering med repetermöjlighet (step and repeat, direkt step on wafer) eller scanner (step and scan) som använder röntgen eller foto-optiska metoder och som har något av följande:

a)

Ljuskällans våglängd är kortare än 193 nm, eller

b)

kan producera ett mönster med en ’minsta upplösning för systemdimensionen’ (MRF) på 45 nm eller mindre.

Teknisk anmärkning:

Den ’minsta upplösningen för systemdimensionen’ (MRF) beräknas med följande formel:

Image 1

där K är en skalfaktor = 0,35

2.

Litografisk präglingsutrustning som kan framställa detaljer på 45 nm eller mindre.

Anmärkning:

Avsnitt 3B001.f.2 omfattar följande:

—

Verktyg för mikrokontakttryck.

—

Verktyg för värmeprägling.

—

Verktyg för nanopräglingslitografi.

—

S-FIL-verktyg (step and flash imprint lithography).

3.

Utrustning som är speciellt konstruerad för att tillverka masker och som har allt av följande:

a)

Den använder avlänkade fokuserade elektron-, jon- eller ”laser” strålar, och

b)

har något av följande:

1.

En halvvärdesbredd på under 65 nm och bildplacering på mindre än 17 nm (medelvärde + 3 sigma). eller

2.

Används inte.

3.

Misspass på andra lagret på mindre än 23 nm (medelvärde + 3 sigma) på masken.

4.

Utrustning som är konstruerad för bearbetning med hjälp av direkta skrivmetoder och som har allt av följande:

a)

Den använder avlänkade fokuserade elektronstrålar, och

b)

har något av följande:

1.

En minsta strålstorlek på högst 15 nm. eller

2.

Misspass på mindre än 27 nm (medelvärde + 3 sigma).”
Top