EUR-Lex Access to European Union law

Back to EUR-Lex homepage

This document is an excerpt from the EUR-Lex website

Document 32022R0001R(01)

Popravek Delegirane uredbe Komisije (EU) 2022/1 z dne 20. oktobra 2021 o spremembi Uredbe (EU) 2021/821 Evropskega parlamenta in Sveta glede seznama blaga z dvojno rabo (Uradni list Evropske unije L 3 z dne 6. januarja 2022)

UL L 20, 31.1.2022, p. 282–282 (BG, ES, CS, DA, DE, ET, EL, EN, FR, GA, HR, IT, LV, LT, HU, MT, NL, PL, PT, RO, SK, SL, FI, SV)

ELI: http://data.europa.eu/eli/reg_del/2022/1/corrigendum/2022-01-31/oj

31.1.2022   

SL

Uradni list Evropske unije

L 20/282


Popravek Delegirane uredbe Komisije (EU) 2022/1 z dne 20. oktobra 2021 o spremembi Uredbe (EU) 2021/821 Evropskega parlamenta in Sveta glede seznama blaga z dvojno rabo

( Uradni list Evropske unije L 3 z dne 6. januarja 2022 )

Stran 142, Priloga, točka 3B001.f se nadomesti z naslednjim:

„f.

litografska oprema:

1.

oprema za pozicioniranje in izpostavljanje rezin po sistemu korak in ponovi (neposredni korak na rezini) ali korak in skeniraj (skener) pri obdelavi rezin z uporabo fotooptične metode ali metode z rentgenskimi žarki in ki ima katero koli od naslednjih značilnosti:

a.

vir svetlobe valovne dolžine manj kakor 193 nm ali

b.

zmožnost proizvajanja oblike z ‚minimalno razločljivo potezo‘ (MRF) 45 nm ali manj;

Tehnična opomba:

‚minimalna razločljiva poteza‘ (MRF) se izračuna po naslednji enačbi:

Image 1

pri čemer je faktor K = 0,35.

2.

tiskarska litografska oprema, s katero se lahko tiska podobe z največ 45 nm;

Opomba:

točka 3B001.f.2 vključuje:

mikrokontaktno tiskarsko orodje,

vroča reliefna orodja,

nanotiskarska litografska orodja,

tiskarska litografska orodja „step and flash“ (S-FIL).

3.

oprema, izdelana posebej za obdelavo naprav za izdelavo mask, ki ima obe naslednji značilnosti:

a.

elektronski žarek z odklonjenim fokusom, ionski ali „laserski“ žarek in

b.

ima katero koli od naslednjih značilnosti:

1.

polovična vrednost širine (FWHM) točke, manjša od 65 nm in postavitev slike, manjša od 17 nm (srednja vrednost + 3 sigme), ali

2.

se ne uporablja;

3.

napaka pri prekrivanju druge plasti, manjša od 23 nm (srednja vrednost + 3 sigme) na maski;

4.

oprema, ki je zasnovana za obdelavo s pomočjo neposrednih metod zapisa in ima obe naslednji značilnosti:

a.

elektronski žarek z odklonjenim fokusom in

b.

ima katero koli od naslednjih značilnosti:

1.

najmanjša širina žarka je enaka ali manjša od 15 nm ali

2.

napaka pri prekrivanju plasti, manjša od 27 nm (srednja vrednost + 3 sigme);“.


Top