Back to EUR-Lex homepage

EUR-Lex Access to European Union law

Back to EUR-Lex homepage

This document is an excerpt from the EUR-Lex website

Use quotation marks to search for an "exact phrase". Append an asterisk (*) to a search term to find variations of it (transp*, 32019R*). Use a question mark (?) instead of a single character in your search term to find variations of it (ca?e finds case, cane, care).
Search tips
Need more search options? Use the Advanced search
You are here

Document 32022R0001R(01)

Labojums Komisijas Deleģētajā regulā (ES) 2022/1 (2021. gada 20. oktobris), ar ko groza Eiropas Parlamenta un Padomes Regulu (ES) 2021/821 attiecībā uz divējāda lietojuma preču sarakstu (“Eiropas Savienības Oficiālais Vēstnesis” L 3, 2022. gada 6. janvāris)

OV L 20, 31.1.2022, p. 282–282 (BG, ES, CS, DA, DE, ET, EL, EN, FR, GA, HR, IT, LV, LT, HU, MT, NL, PL, PT, RO, SK, SL, FI, SV)

ELI: http://data.europa.eu/eli/reg_del/2022/1/corrigendum/2022-01-31/oj

31.1.2022   

LV

Eiropas Savienības Oficiālais Vēstnesis

L 20/282

Labojums Komisijas Deleģētajā regulā (ES) 2022/1 (2021. gada 20. oktobris), ar ko groza Eiropas Parlamenta un Padomes Regulu (ES) 2021/821 attiecībā uz divējāda lietojuma preču sarakstu

( “Eiropas Savienības Oficiālais Vēstnesis” L 3, 2022. gada 6. janvāris )

142. lappusē pielikuma 3B001. punkta f. apakšpunktu aizstāj ar šādu:

“f.

litogrāfijas iekārtas:

1.

salāgošanas un eksponēšanas soļa un atkārtošanas (tiešais solis uz sagataves) vai soļa un skenēšanas iekārtas pusvadītāju sagatavju disku apstrādei, lietojot fotooptisku vai rentgenstaru metodi, kurām ir kāds no šiem raksturlielumiem:

a.

gaismas avota viļņu garums mazāks par 193 nm; vai

b.

spēj formēt trafaretattēlu ar ‘mazāko atšķiramu detaļu lielumu’ (MRF) 45 nm vai mazāku;

Tehniska piezīme:

‘Mazāko atšķiramu detaļu lielumu’ (MRF) aprēķina ar šādu formulu:

Image 1

kur K koeficients = 0,35

2.

litogrāfijas iespiediekārtas, ar kurām var iespiest elementus, kuru izmēri nepārsniedz 45 nm;

Piezīme:

3B001.f.2. pozīcija ietver turpmāko:

—

kontakta mikrodrukas ierīces;

—

karstspieduma ierīces;

—

nanodrukas litogrāfijas ierīces;

—

step and flash drukas (S-FIL) litogrāfijas ierīces

3.

masku izgatavošanai speciāli konstruētas iekārtas ar visiem šādiem raksturlielumiem:

a.

novirzīts fokusēts elektronu kūlis, jonu kūlis vai “lāzera” staru kūlis; un

b.

kam ir jebkura no šādām īpašībām:

1.

pilna platuma pusmaksimuma (FWHM) punkta izmērs ir mazāks par 65 nm un attēla novietojums ir mazāks par 17 nm (vidējais + 3 sigmas); vai

2.

netiek lietots;

3.

maskas otrā slāņa pārklājuma kļūda ir mazāka par 23 nm (vidējais + 3 sigmas);

4.

Iekārtas, kuras konstruētas ierīču apstrādei, lietojot tiešās rakstīšanas metodes, un kurām ir visi šādi raksturlielumi:

a.

novirzīts fokusēts elektronu kūlis; un

b.

kam ir jebkura no šādām īpašībām:

1.

minimālais kūļa izmērs ir 15 nm vai mazāks; vai

2.

pārklājuma kļūda ir mazāka par 27 nm (vidējais + 3 sigmas);”.
Top