Back to EUR-Lex homepage

EUR-Lex Access to European Union law

Back to EUR-Lex homepage

This document is an excerpt from the EUR-Lex website

Use quotation marks to search for an "exact phrase". Append an asterisk (*) to a search term to find variations of it (transp*, 32019R*). Use a question mark (?) instead of a single character in your search term to find variations of it (ca?e finds case, cane, care).
Search tips
Need more search options? Use the Advanced search
You are here

Document 32022R0001R(01)

Helyesbítés az (EU) 2021/821 európai parlamenti és tanácsi rendeletnek a kettős felhasználású termékek jegyzéke tekintetében történő módosításáról szóló, 2021. október 20-i felhatalmazáson alapuló bizottsági rendelethez (Az Európai Unió Hivatalos Lapja L 3., 2022. január 6.)

HL L 20., 2022.1.31, p. 282–282 (BG, ES, CS, DA, DE, ET, EL, EN, FR, GA, HR, IT, LV, LT, HU, MT, NL, PL, PT, RO, SK, SL, FI, SV)

ELI: http://data.europa.eu/eli/reg_del/2022/1/corrigendum/2022-01-31/oj

2022.1.31.   

HU

Az Európai Unió Hivatalos Lapja

L 20/282

Helyesbítés az (EU) 2021/821 európai parlamenti és tanácsi rendeletnek a kettős felhasználású termékek jegyzéke tekintetében történő módosításáról szóló, 2021. október 20-i felhatalmazáson alapuló bizottsági rendelethez

( Az Európai Unió Hivatalos Lapja L 3., 2022. január 6. )

A 142. oldalon, a melléklet 3B001.f pontja helyébe a következő szöveg lép:

„f.

Litográfiai berendezés, az alábbiak szerint:

1.

A fotóoptikai vagy röntgen módszerrel történő szeletfeldolgozásra szolgáló irányzó, exponáló és ismétlő (közvetlen szeletre fotózás) vagy exponáló és letapogató (letapogatás) berendezés, amely rendelkezik az alábbi jellemzők bármelyikével:

a.

a fényforrás hullámhosszúsága rövidebb, mint 193 nm; vagy

b.

képes 45 nm, vagy annál kisebb 'minimális felbontási méretű' (MRF) minta létrehozására.

Műszaki megjegyzés:

A 'minimális felbontási méret' (MRF) kiszámítása a következők szerint történik:

Image 1

ahol a „K” faktor = 0,35

2.

45 nm vagy annál kisebb felbontási méretű minta létrehozására képes imprinting litográfiai berendezés;

Megjegyzés:

A 3B001.f.2. pont magában foglalja az alábbiakat:

—

mikrokontaktus-nyomtatók

—

forró dombornyomásra szolgáló eszközök

—

nano-imprinting litográfiai eszközök

—

Step and Flesh imprinting litográfiai (S-FIL) eszközök

3.

Kifejezetten maszkkészítésre tervezett berendezés, amely rendelkezik az alábbiak mindegyikével:

a.

eltérített fókuszált elektronsugár, ionsugár, vagy „lézer” sugár; és

b.

rendelkeznek az alábbiak bármelyikével:

1.

a félértékszélességű sugárpont mérete kisebb, mint 65 nm és a képelhelyezés kisebb, mint 17 nm (számtani közép + 3 szigma); vagy

2.

nem használt;

3.

a maszkon a második rétegi átfedési hibája kisebb, mint 23 nm (számtani közép + 3 szigma);

4.

Eszköz gyártására tervezett berendezés, amely közvetlen írásos módszert alkalmaz, és amely rendelkezik az alábbi jellemzők mindegyikével:

a.

eltérített fókuszált elektronsugár; és

b.

rendelkeznek az alábbiak bármelyikével:

1.

a sugár minimális mérete 15 nm vagy annál kisebb; vagy

2.

az átfedési hiba kisebb, mint 27 nm (számtani közép + 3 szigma);”
Top