Back to EUR-Lex homepage

EUR-Lex Access to European Union law

Back to EUR-Lex homepage

This document is an excerpt from the EUR-Lex website

Use quotation marks to search for an "exact phrase". Append an asterisk (*) to a search term to find variations of it (transp*, 32019R*). Use a question mark (?) instead of a single character in your search term to find variations of it (ca?e finds case, cane, care).
Search tips
Need more search options? Use the Advanced search
You are here

Document 32022R0001R(01)

Oprava nařízení Komise v přenesené pravomoci (EU) 2022/1 ze dne 20. října 2021, kterým se mění nařízení Evropského parlamentu a Rady (EU) 2021/821, pokud jde o seznam zboží dvojího užití (Úřední věstník Evropské unie L 3 ze dne 6. ledna 2022)

Úř. věst. L 20, 31.1.2022, p. 282–282 (BG, ES, CS, DA, DE, ET, EL, EN, FR, GA, HR, IT, LV, LT, HU, MT, NL, PL, PT, RO, SK, SL, FI, SV)

ELI: http://data.europa.eu/eli/reg_del/2022/1/corrigendum/2022-01-31/oj

31.1.2022   

CS

Úřední věstník Evropské unie

L 20/282

Oprava nařízení Komise v přenesené pravomoci (EU) 2022/1 ze dne 20. října 2021, kterým se mění nařízení Evropského parlamentu a Rady (EU) 2021/821, pokud jde o seznam zboží dvojího užití

( Úřední věstník Evropské unie L 3 ze dne 6. ledna 2022 )

Strana 142, příloha, bod 3B001.f se nahrazuje tímto:

„f.

litografická zařízení:

1.

nastavovací a krokovací nebo krokovací a snímací zařízení na zpracování destiček polovodičů za použití fotooptických nebo rentgenových metod, která mají některou z těchto vlastností:

a.

vlnová délka světelného zdroje kratší než 193 nm; nebo

b.

schopnost exponovat obrazce s ‚velikostí nejmenšího rozlišitelného prvku‘ (MRF) 45 nm nebo menší;

Technická poznámka:

‚Velikost nejmenšího rozlišitelného prvku‘ se vypočítá podle vzorce:

Image 1

kde K faktor = 0,35

2.

vybavení pro tiskovou litografii schopné vyrábět struktury o velikosti 45 nm nebo menší;

Poznámka:

Položka 3B001.f.2. zahrnuje:

—

mikrokontaktní tiskové nástroje

—

nástroje pro ražení za tepla

—

nástroje pro nanotiskovou litografii

—

nástroje pro tiskovou litografii technikou „Step and flash“ (S-FIL)

3.

Zařízení speciálně konstruovaná pro výrobu masek, která mají všechny tyto vlastnosti:

a.

využívají vychylovaného zaostřeného elektronového paprsku, iontového paprsku nebo „laserového“ paprsku; a

b.

mají některou z těchto vlastností:

1.

stopa paprsku o šířce v polovině maxima (full-width at half maximum (FWHM)) menší než 65 nm a umístění obrazu menší než 17 nm (střed + 3 sigma); nebo

2.

nevyužito;

3.

chyba překrytí masky druhou vrstvou menší než 23 nm (střed + 3 sigma);

4.

zařízení konstruovaná pro zpracování součástek za použití metod přímého zápisu, která mají všechny tyto vlastnosti:

a.

mají vychylovaný zaostřený elektronový paprsek; a

b.

mají některou z těchto vlastností:

1.

minimální velikost paprsku nejvýše 15 nm; nebo

2.

chyba překrytí menší než 27 nm (střední hodnota + 3 sigma);“.
Top