Back to EUR-Lex homepage

EUR-Lex Access to European Union law

Back to EUR-Lex homepage

This document is an excerpt from the EUR-Lex website

Use quotation marks to search for an "exact phrase". Append an asterisk (*) to a search term to find variations of it (transp*, 32019R*). Use a question mark (?) instead of a single character in your search term to find variations of it (ca?e finds case, cane, care).
Search tips
Need more search options? Use the Advanced search
You are here

Document 32022R0001R(01)

Поправка на Делегиран регламент (ЕС) 2022/1 на Комисията от 20 октомври 2021 година за изменение на Регламент (ЕС) 2021/821 на Европейския парламент и на Съвета по отношение на списъка на изделията с двойна употреба (Официален вестник на Европейския съюз L 3 от 6 януари 2022 г.)

OB L 20, 31.1.2022, p. 282–282 (BG, ES, CS, DA, DE, ET, EL, EN, FR, GA, HR, IT, LV, LT, HU, MT, NL, PL, PT, RO, SK, SL, FI, SV)

ELI: http://data.europa.eu/eli/reg_del/2022/1/corrigendum/2022-01-31/oj

31.1.2022   

BG

Официален вестник на Европейския съюз

L 20/282

Поправка на Делегиран регламент (ЕС) 2022/1 на Комисията от 20 октомври 2021 година за изменение на Регламент (ЕС) 2021/821 на Европейския парламент и на Съвета по отношение на списъка на изделията с двойна употреба

( Официален вестник на Европейския съюз L 3 от 6 януари 2022 г. )

На страница 142 в приложението, точка 3B001.f се заменя със следното:

„f.

Литографско оборудване, както следва:

1.

Оборудване за изравняващи и експониращи стъпки и повторения (директна стъпка върху пластина) или сканиращо оборудване (скенери) за обработка на пластина с използване на фотооптични и рентгенови методи или притежаващо която и да е от следните характеристики:

a.

Дължина на вълната на светлинния източник, по-къса от 193 nm; или

b.

Способно да оформя растер (модел) с размер на 'минималната различима единица' (MRF) от 45 nm или по-малка;

Техническа бележка:

'Минималната различима единица' (MRF) се пресмята по следната формула:

Image 1

където факторът К = 0,35

2.

Оборудване за литографски печат, способно да печата елементи от 45 nm или по-малки;

Бележка:

3B001.f.2. включва:

—

Инструменти за микроконтактен печат

—

Инструменти за горещо щамповане

—

Инструменти за литографски нанопечат

—

Инструменти за литографски печат S-FIL (step and flash imprint lithography).

3.

Оборудване, специално проектирано за изработване на маски, притежаващо всички изброени по-долу характеристики:

a.

Отклонен фокусиран електронен лъч, йонен лъч или "лазерен" лъч; и

b.

С която и да е от следните характеристики:

1.

Размер на пълната широчина на светлинното петно при половината от максимума (full-width half-maximum — FWHM) под 65 nm и позициониране на изображението под 17 nm (средна стойност + 3 sigma); или

2.

Не се използва;

3.

Отклонение в покритието при втория слой на маската под 23 nm (средна стойност + 3 сигма);

4.

Оборудване, проектирано за обработка на устройства, използващо методи за директен печат и имащо всички изброени по-долу характеристики:

a.

Отклонен фокусиран електронен лъч; и

b.

С която и да е от следните характеристики:

1.

Минимален размер на светлинния лъч, равен или по-малък от 15 μm; или

2.

Отклонение в покритието под 27 nm (средна стойност + 3 сигма);“.
Top