Rättelse till Kommissionens delegerade förordning (EU) 2022/1 av den 20 oktober 2021 om ändring av Europaparlamentets och rådets förordning (EU) 2021/821 vad gäller förteckningen över produkter med dubbla användningsområden
På sidan 142, bilaga I punkt 3B001, ska led f ersättas med följande:
”f)
Litografisk utrustning enligt följande:
1.
Utrustning för uppriktning samt exponering med repetermöjlighet (step and repeat, direkt step on wafer) eller scanner (step and scan) som använder röntgen eller foto-optiska metoder och som har något av följande:
a)
Ljuskällans våglängd är kortare än 193 nm, eller
b)
kan producera ett mönster med en ’minsta upplösning för systemdimensionen’ (MRF) på 45 nm eller mindre.
Teknisk anmärkning:
Den ’minsta upplösningen för systemdimensionen’ (MRF) beräknas med följande formel:
där K är en skalfaktor = 0,35
2.
Litografisk präglingsutrustning som kan framställa detaljer på 45 nm eller mindre.
Anmärkning:
Avsnitt 3B001.f.2 omfattar följande:
—
Verktyg för mikrokontakttryck.
—
Verktyg för värmeprägling.
—
Verktyg för nanopräglingslitografi.
—
S-FIL-verktyg (step and flash imprint lithography).
3.
Utrustning som är speciellt konstruerad för att tillverka masker och som har allt av följande:
a)
Den använder avlänkade fokuserade elektron-, jon- eller ”laser” strålar, och
b)
har något av följande:
1.
En halvvärdesbredd på under 65 nm och bildplacering på mindre än 17 nm (medelvärde + 3 sigma). eller
2.
Används inte.
3.
Misspass på andra lagret på mindre än 23 nm (medelvärde + 3 sigma) på masken.
4.
Utrustning som är konstruerad för bearbetning med hjälp av direkta skrivmetoder och som har allt av följande:
a)
Den använder avlänkade fokuserade elektronstrålar, och
b)
har något av följande:
1.
En minsta strålstorlek på högst 15 nm. eller
2.
Misspass på mindre än 27 nm (medelvärde + 3 sigma).”