Sprostowanie do rozporządzenia delegowanego Komisji (UE) 2022/1 z dnia 20 października 2021 r. zmieniającego rozporządzenie Parlamentu Europejskiego i Rady (UE) 2021/821 w odniesieniu do wykazu produktów podwójnego zastosowania
Strona 142, załącznik, pkt 3B001.f otrzymuje brzmienie:
„f.
następujący sprzęt litograficzny:
1.
sprzęt do wytwarzania płytek elektronicznych poprzez pozycjonowanie, naświetlanie oraz powielanie (bezpośredni krok na płytkę) lub skanowanie (skaner), z wykorzystaniem metody fotooptycznej lub promieni rentgenowskich, spełniający którekolwiek z poniższych kryteriów:
a.
źródło światła o długości fali krótszej niż 193 nm; lub
b.
zdolny do wytwarzania wzorów o ‘rozmiarze minimalnej rozdzielczości wymiarowej’ (MRF) 45 nm lub mniejszej;
Uwaga techniczna:
‘Rozmiar minimalnej rozdzielczości wymiarowej’ (MRF) obliczany jest według poniższego wzoru:
gdzie współczynnik K = 0,35
2.
urządzenia do litografii nanodrukowej zdolne do drukowania elementów o wielkości 45 nm lub mniejszych;
Uwaga:
Pozycja 3B001.f.2. obejmuje:
—
narzędzia do mikrodruku kontaktowego,
—
narzędzia do wytłaczania na gorąco,
—
narzędzia do litografii nanodrukowej,
—
narzędzia do litografii „step-and-flash” (S-FIL).
3.
sprzęt specjalnie zaprojektowany do wytwarzania masek, spełniający wszystkie poniższe kryteria:
a.
posiadający odchylaną, zogniskowaną wiązkę elektronów, jonów lub wiązkę „laserową”; oraz
b.
spełniający którekolwiek z poniższych kryteriów:
1.
apertura plamki dla szerokości piku w połowie jego wysokości poniżej 65 nm i umiejscowienie obrazu poniżej 17 nm (średnia + 3 sigma); lub
2.
nieużywane;
3.
błąd nakładania drugiej warstwy mniejszy niż 23 nm (średnia + 3 sigma) na maskę;
4.
sprzęt zaprojektowany do wytwarzania przyrządów wykorzystujący metody bezpośredniego nadruku i spełniający wszystkie poniższe kryteria:
a.
wykorzystujący odchylaną, zogniskowaną wiązkę elektronów; oraz
b.
spełniający którekolwiek z poniższych kryteriów:
1.
minimalny rozmiar wiązki równy lub mniejszy niż 15 nm; lub
