Corrección de errores del Reglamento Delegado (UE) 2022/1 de la Comisión, de 20 de octubre de 2021, por el que se modifica el Reglamento (UE) 2021/821 del Parlamento Europeo y del Consejo en lo que concierne a la lista de productos de doble uso
En la página 142, en el anexo, el punto 3B001.f queda redactado como sigue:
«f.
Equipos de litografía según se indica:
1.
Equipos de alineación y exposición, por paso y repetición (paso directo en la oblea) o por paso y exploración (explorador), para el proceso de obleas utilizando métodos fotoópticos o de rayos X y que posean cualquiera de las características siguientes:
a.
Longitud de onda de la fuente luminosa inferior a 193 nm, o
b.
Capacidad de producir un patrón cuyo ‘tamaño de la característica resoluble mínima’ (MRF) sea igual o inferior a 45 nm
Nota técnica:
El ‘tamaño de la característica resoluble mínima’ (MRF) se calcula mediante la siguiente fórmula:
siendo el factor K = 0,35.
2.
Equipos de impresión litográfica que puedan producir características de 45 nm de base o menos
Nota:
El subartículo 3B001.f.2 incluye:
—
Instrumentos de impresión por microcontacto
—
Instrumentos de troquelado en caliente
—
Instrumentos de nanoimpresión litográfica
—
Instrumentos de impresión litográfica S-FIL (step and flash).
3.
Equipos diseñados especialmente para la fabricación de máscaras, que reúnan todas las características siguientes:
a.
Un haz de electrones, un haz de iones o un haz "láser", enfocado y desviable, y
b.
Que posean cualquiera de las características siguientes:
1.
Un tamaño de anchura de altura media (FWHM) del haz en el impacto (spot) inferior a 65 nm y una colocación de imagen inferior a 17 nm (media + 3 sigma), o
2.
Sin uso
3.
Un error de recubrimiento de la segunda capa inferior a 23 nm (media + 3 sigma) de la máscara
4.
Equipos diseñados para el proceso de dispositivos, utilizando métodos de escritura directa, que reúnan todas las características siguientes:
a.
Un haz de electrones enfocado y desviable, y
b.
Que posean cualquiera de las características siguientes:
1.
Un tamaño mínimo del haz inferior o igual a 15 nm, o
2.
Un error de recubrimiento inferior a 27 nm (media + 3 sigma)».
